Іонне покриття

Іонне покриття - спеціальна модифікація загального TE-PVD процесу, у якому плазмове або іонне джерело використовується для іонізації часток, що наносяться як покриття, а негативне зміщення напруги прикладається до підкладки, що сприяє осадженню складових матеріалів покриття з плазми. Введення активних реагентів, випаровування твердих матеріалів у камері, а також використання моніторів, які забезпечують вимірювання (у процесі нанесення покриття) оптичних характеристик та товщини покриття, є звичайними модифікаціями процесу.